Получение автоэпитаксиальных слоев кремния на подложках цилиндрической формы методом парофазной эпитаксии химическим осаждением в системе SiH4-H2 / А.С. Гришко, Т.Т. Кондратенко, В.В. Митин, С.Н. Чигир // Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. – 2005. – №2. – C.32–36
Складова документа:
Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники : научный журнал. №2 / Мин.- во образов. и науки РФ // Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. – М., 2005
Анотація:
Рассмотрена возможность получения автоэпитаксиальных слоев кремния на цилиндрических подложках для последующего изготовления на их основе силовых диодов.