Бинарные фазовые маски на самопроявляющихся фотополимерах: техника формирования и тестирование в оптическом корреляторе / П.В. Ежов, О.А. Ильин, Т.Н. Смирнова, Е.А. Тихонов // Квантовая электроника. – 2003. – № 6. – С.559–562
Складова документа:
Квантовая электроника : научный журнал. № 6. Т. 33 / ФИАН . МИФИ и др. // Квантовая электроника. – Москва, 2003
Анотація:
Исследованы бинарные фазовые маски (ФМ) размером 256times256 ячеек со случайным распределением элементов, сформированные на самопроявляющемся фотополимере ФПК-488. Маски изготавливались проекционным методом с использованием амплитудных транспарантов. Набег фаз между элементами маски, соответствующим областям амплитудного транспаранта с оптической плотностью D=0 и 2, для длины волны лямда =0.633 мкм составил (0.85pm0.05){p}. Для полученных ФМ записаны голографические согласованные фильтры (ГСФ). Дифракционная эффективность ГСФ ФМ {Z} составила 40%. Сигналы распознавания для ФМ в корреляторе Вандер Люгта при этом характеризовались отношением сигнал/шум 20 дБ. Исследована зависимость нормированной плотности мощности сигнала распознавания от угла поворота ФМ во входной плоскости коррелятора Вандер Люгта.