Исследовано воздействие импульсного излучения гольмиевого лазера (YSGG:Cr3+:Yb3+:Ho3+, длина волны l=2.92 мкм, длительность импульса t=130 нс) и лазера на парах меди (l=510 нм, t=20 нс) на водную суспензию ультрадисперсного алмаза. Методами рентгеноэлектронной спектроскопии и спектроскопии характеристических потерь энергии электронов установлено, что после облучения суспензии гольмиевым лазером в ней уменьшается содержание примесного неалмазного углерода. Этот процесс обусловлен его растворением в сверхкритическом водном растворе, возникающем при поглощении излучения. Растворение неалмазной фракции может служить индикатором нахождения раствора в закритическом состоянии при лазерном облучении жидкостей. Расcмотренный процесс может использоваться как эффективный метод очистки ультрадисперсных алмазов.