Апатин В.М. ИК многофотонная диссоциация трихлорсилана под действием импульсного излучения CO2- и NH3-лазеров / В.М. Апатин, В.Б. Лаптев, Е.А. Рябов // Квантовая электроника. – 2003. – № 10. – С.894–896
Складова документа:
Квантовая электроника : научный журнал. № 10. Т. 33 / ФИАН . МИФИ и др. // Квантовая электроника. – Москва, 2003
Анотація:
Исследована ИК многофотонная диссоциация молекул трихлорсилана (SiHCl3) под действием излучения импульсных CO2- и NH3-лазеров. Получены зависимости выхода диссоциации от частоты и плотности энергии лазерного излучения, а также от собственного давления SiHCl3. Обнаружено, что основными продуктами диссоциации трихлорсилана являются HCl и твердый осадок предположительно с общей химической формулой (SiCl2)n.