Воздействие излучения пятой гармоники Nd:YAP-лазера ( лямда=216 нм) на фоточувствительные пленкииз германосиликатного стекла / С.В. Муравьев, О.А. Мальшакова, К.М. Голант и др. // Квантовая электроника. – 2003. – № 11. – С.953–957
Складова документа:
Квантовая электроника : научный журнал. № 11. Т. 33 / ФИАН . МИФИ и др. // Квантовая электроника. – Москва, 2003
Анотація:
Исследованы спектр поглощения, показатель преломления и рельеф поверхности пленки из германосиликатного стекла с бором при неразрушающем воздействии пятой гармоники излучения импульсно-периодического Nd:YAP-лазера с {l}=216 нм (энергия кванта 5.75 эВ). Показано, что облучение пленок приводит к существенному фоторефрактивному эффекту, несмотря на относительно небольшой коэффициент поглощения. Установлено, что при плотности энергии 100 мДж/см2 и выше заметный вклад в поглощение лазерного излучения на {l}=216 нм дают двухфотонные процессы. Дифракционная эффективность фотоиндуцированных фазовых решеток достигала ~7times10^{-3 при дозе облучения ~6 кДж/см2, что соответствует наведенному показателю преломления ~1.5times10^{-3. Бо'льшая доза облучения приводит к появлению рельефа на поверхности пленки и снижению дифракционной эффективности фазовой решетки.