Исследование процессов ионизации алюминия в плазме СВЧ -ЭЦР разряда / В.Н. Харченко, Н.П. Полуэктов, Ю.П. Царьгородцев и др. // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2003. – №3. – С.28–35
Складова документа:
Известия высших учебных заведений. Электроника : научно-технический журнал. №3 / М-во образ. РФ. МИЭТ // Известия высших учебных заведений. Электроника. – М., 2003
Анотація:
Проведены исследования ионизации распыленных атомов алюминия в плазме СВЧ-ЭЦП разряда, используемого для металлизации субмикронных структур изделий микроэлектроники. Зондовыми и спектральными методами изучены пространственные распределения параметров плазмы и их изменения под воздействием атомов металла