Шокина Д.И. Влияние химически активной среды отжига на структурные дефекты кремния / Д.И. Шокина, В.Н. Кукин, И.В. Вернер // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2003. – №5. – С.28–31
Складова документа:
Известия высших учебных заведений. Электроника : научно-технический журнал. №5 / М-во образ. РФ. МИЭТ // Известия высших учебных заведений. Электроника. – М., 2003
Анотація:
Представлены результаты электронно-микроскопических исследований пластин кремния после ионной имплантации и отжига в нейтральной и химически активной водородной среде. Показано, что отжиг в среде водорода при температуре 700 градусов С приводит к улучшению структуры приповерхностной области кремния