Осипов Г.А. Применение технологических радиационно-термических процессов для повышения радиационной стойкости КМОП-микросхем / Г.А. Осипов // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2004. – №4. – С.17–23
Складова документа:
Известия высших учебных заведений. Электроника : научно-технический журнал. №4 / М-во образ. РФ. МИЭТ // Известия высших учебных заведений. Электроника. – М., 2004
Анотація:
Рассмотрены вопросы разработки и применения технологических радиационно-термических процессов (РТП), основанных на использовании операций облучения микросхем большими потоками быстрых электронов при высоких интенсивностях потоков для управления электрическими параметрами и повышения радиационной стойкости (РС). Показано, что применение РТП дает возможность эффективно улучшать параметры и повышать РС микросхем